Zasledovanje polprevodniške industrije po manjših, hitrejših in zmogljivejših čipih zahteva izjemno čisto vodo. Doseganje te stopnje čistosti vode predstavlja izziv pri upravljanju vode, zaradi česar so rešitve za upravljanje silicijevega dioksida za polprevodniška podjetja ključne. Od velike porabe vode do strogih predpisov se polprevodniška podjetja soočajo s številnimi zapletenimi postopki čiščenja vode.

Kako lahko proizvajalci polprevodnikov dosežejo potrebno čistost vode za proizvodnjo čipov? Kako lahko ravnajo z nastalo odpadno vodo?

Ta članek raziskuje učinkovite rešitve za upravljanje čiščenja vode s silicijevim dioksidom za polprevodniška podjetja. Poudarja tudi, kako te rešitve spodbujajo odgovorne vodne sisteme in okoljsko trajnost.

Kazalo:

• Vodni izziv v proizvodnji polprevodnikov
• Silicijev dioksid: majhen povzročitelj težav
• GCAT: sprememba igre pri predobdelavi
• Reverzna osmoza: poliranje vode
• Ravnanje z odpadno vodo: zapiranje zanke
• Rešitve za upravljanje silicijevega dioksida za polprevodniško podjetje: celovit pristop
• Pogosta vprašanja o rešitvah za upravljanje silicijevega dioksida za polprevodniško komp
  • Kako zmanjšati silicijev dioksid pri čiščenju vode?
  • Za kaj se uporablja voda v industriji polprevodnikov?
  • Kaj je silicijev dioksid pri čiščenju vode?
  • Koliko vode porabi polprevodnik?
• zaključek

Vodni izziv v proizvodnji polprevodnikov

Proizvodnja računalniških čipov zahteva veliko vode. Velik obrat za izdelavo polprevodnikov (fab) lahko dnevno porabi na milijone litrov vode. Na primer, tovarna, ki mesečno predeluje 40,000 rezin, lahko porabi do 4.8 milijona galon na dan.

To je primerljivo z letno porabo vode v mestu s 60,000 prebivalci. Približno 75 % te vode neposredno podpira proizvodne procese. Celo majhne nečistoče lahko poškodujejo čipe, zato ustvarjanje ultračiste vode zahteva napredne tehnologije za čiščenje vode.

Silicijev dioksid: majhen povzročitelj težav

Kremen, pogost onesnaževalec vode, predstavlja velik izziv. Celo majhni delci silicijevega dioksida lahko zmotijo ​​proizvodnjo čipov, se prilepijo na komponente in povzročijo napake. Silicijev dioksid tvori tudi vodni kamen v ceveh in opremi, kar zmanjšuje učinkovitost in življenjsko dobo.

Odstranjevanje kremena iz surove vode je zapleten postopek. Zahteva industrijske rešitve za čiščenje vode, ki uporabljajo več metod.

GCAT: katalitična inovacija v predobdelavi

Tehnologija katalitične aktivacije Genesis (GCAT) je vodilna tehnologija predobdelave za zmanjšanje silicijevega dioksida. Medij za katalitično obdelavo poveča obarjanje silicijevega dioksida.

To poenostavi sanacijo silicijevega dioksida, preden doseže membrane reverzne osmoze (RO), kar zmanjša obremenitev silicijevega dioksida na nadaljnji opremi. GCAT ponuja številne prednosti.

Učinkovito deluje tudi pri nizkih ravneh skupnih raztopljenih trdnih snovi (TDS) in zmanjšuje uporabo kemikalij, s čimer poveča stopnje izkoristka permeata, hkrati pa je okolju prijaznejši od drugih možnosti predobdelave.

Sistem G-CAT učinkovito nevtralizira in spremeni molekularno strukturo raztopljenega silicijevega dioksida s svojim medijem za katalitično obdelavo, kar se je izkazalo za posebej uporabnega za industrijske vire napajalne vode z različnimi koncentracijami TDS.

Reverzna osmoza: poliranje vode

Po predobdelavi GCAT reverzna osmoza (RO) polira vodo za proizvodnjo ultračiste vode. Reverzna osmoza odstrani več kot 95 % raztopljenega silicijevega dioksida, zaradi česar je bistvenega pomena za izpiranje in čiščenje rezin.

Združevanje GCAT in visokoučinkovita reverzna osmoza s sredstvi proti nabiranju kamenca koristi polprevodniškim tovarnam. Za proizvodnjo 1,000 litrov ultračiste vode je potrebnih 1,400 do 1,600 litrov komunalne vode.

GCAT v kombinaciji z majhnimi odmerki specifičnih sredstev proti luščenju preprečuje, da bi silicijev dioksid umazal RO membrane. To podaljša življenjsko dobo membrane, prepreči nastanek vodnega kamna in zmanjša potrebo po močnih čistilnih kemikalijah. Izboljšane stopnje pretoka permeata prav tako znižujejo obratovalne stroške in nastajanje odpadne vode.

Ravnanje z odpadno vodo: zapiranje zanke

Čiščenje vode s kremenčevim dioksidom in upravljanje z njim segata poleg proizvodnje čiste vode na čiščenje odpadne vode. Proizvodnja polprevodnikov ustvarja precejšnjo količino odpadne vode.

Ta voda zahteva skrbno obdelavo pred izpustom ali ponovno uporabo. Zaradi zaostrovanja predpisov industrija polprevodnikov vse bolj sprejema inovativne in trajnostne rešitve.

Rešitve brez ali minimalnega izpusta tekočine optimizirajo regeneracijo vode in zmanjšajo izpust odpadne vode. 

Rešitve za upravljanje silicijevega dioksida za polprevodniška podjetja: Celostni pristop

Polprevodniška podjetja sprejemajo celovit pristop k upravljanju čiščenja vode s silicijevim dioksidom. Učinkovite rešitve se začnejo s preventivnimi strategijami, kot sta optimizacija procesov in predobdelava s sistemi, kot so GCAT.

Visoko učinkoviti RO sistemi izboljšajo učinkovitost in zmanjšajo vpliv na okolje. Odgovorno in trajnostno čiščenje odpadnih voda je ključnega pomena.

Pomanjkanje vode je vse večja skrb. Naložbe v robustne rešitve upravljanja obravnavajo stroškovne pritiske zaradi strožjih predpisov o izpustih in omejenih zalog vode.

Predpisi se zaostrujejo z večjim poudarkom na odgovornem skrbništvu okolja, zlasti za potrebe industrije polprevodnikov po odvajanju tekočin in rekuperaciji vode.

Učinkovito polprevodniško čiščenje vode vpliva na vsak korak procesa. Podjetja iščejo visoko rekuperacijo vode in povečane stopnje rekuperacije, da bi nadomestile operativne stroške, zaradi česar so elektrodeionizacijski sistemi običajen industrijski sistem za čiščenje vode po poliranju, kar je ključni vidik te enačbe.

Uporaba učinkovitih, trajnostnih industrijskih metod čiščenja vode lahko zagotovi preprost postopek, ki vodi do inovativnih rešitev.

Izvajanje naprednih postopkov čiščenja vode zahteva načrtovanje in predvidevanje, vendar pa lahko vpliv, ki ga imajo proizvajalci polprevodnikov z uporabo takšnih postopkov, zmanjša vpliv na okolje ter ublaži težave, kot sta nabiranje vodnega kamna in kopičenje mineralov, ki lahko poškodujejo opremo.

Zato je izboljšanje vodnih procesov in zmanjševanje teh potencialnih nevarnosti nujno za visokokakovostne rezultate. Medtem ko optimizirate porabo vode in vlagate v inovativne rešitve, kot sta tehnologija membranskega bioreaktorja (MBR) in visoka učinkovitost RO z visokim izkoristkom lahko sčasoma zmanjša kapitalske stroške, polprevodniška obdelava vode je ključni vidik, ki ga je treba upoštevati, načrtovati in izvesti za namene čiščenja vode.

zaključek

Ker si polprevodniška podjetja prizadevajo za tehnološke preboje, je reševanje njihovih edinstvenih izzivov upravljanja z vodo bolj ključno kot kdaj koli prej. Napredne rešitve za upravljanje čiščenja vode iz silicijevega dioksida za podjetja, ki se ukvarjajo s polprevodniki, omogočajo proizvajalcem, da dosežejo izjemno čisto vodo, ki je bistvena za proizvodnjo čipov, hkrati pa učinkovito upravljajo z odpadno vodo.

Z izkoriščanjem inovativnih sistemov, kot sta GCAT in visokoučinkovita reverzna osmoza, te rešitve ne zagotavljajo le skladnosti s strogimi predpisi, ampak tudi spodbujajo trajnostne prakse, ki ohranjajo vodne vire.

Vlaganje v takšne tehnologije zmanjša vpliv na okolje in obratovalne stroške, hkrati pa ohranja kakovost in dolgo življenjsko dobo proizvodne opreme.

Če želite raziskati, kako lahko vaše polprevodniške dejavnosti izkoristijo vrhunske rešitve za čiščenje čiste vode in odpadne vode, 

Danes stopite v stik s strokovnjaki za vodo pri Genesis Water Technologies na +1 321 280 2742 ali po e-pošti na customersupport@genesiswatertech.com da naredite prvi korak k pametnejšemu upravljanju vode, prilagojenemu vašim potrebam.

Pogosta vprašanja o rešitvah za upravljanje silicijevega dioksida za polprevodniška podjetja

Kako zmanjšati silicijev dioksid pri čiščenju vode?

Več metod lahko zmanjša kremen pri obdelavi vode, vključno z mehčanjem apna, obdelavo s katalitično aktivacijo (kot je GCAT), povratna osmozain elektrokoagulacijo.

Učinkovito odstranjevanje silicijevega dioksida je odvisno od dejavnikov, kot so kakovost izvirske vode, ciljne ravni silicijevega dioksida in uporaba.

Združevanje različnih tehnologij lahko zagotovi temeljitejšo odstranitev silicijevega dioksida, kar omogoča prilagajanje postopka zdravljenja.

Kako se uporablja voda v industriji polprevodnikov?

Voda v industriji polprevodnikov opravlja več ključnih funkcij. Čisti in izpira rezine, hladi opremo in igra vlogo pri proizvodnji električne energije.

Izjemno čista voda je nujna za izdelavo rezin. Predelano vodo je mogoče uporabiti za druge procesne aplikacije. Programi ponovne uporabe vode zmanjšujejo vodni odtis in zmanjšujejo obremenitev vodnih virov.

Kaj je silicijev dioksid pri čiščenju vode?

Silicijev dioksid pri čiščenju vode se nanaša na oblike silicijevega dioksida (SiO2), a naravna spojina najdemo v številnih vodnih virih. Kremen tvori vodni kamen na površinah, kar vpliva na industrijske sisteme za čiščenje vode.

Sanacija kremena iz vodnih sistemov ščiti opremo in zagotavlja nemoteno delovanje, izboljša sisteme čiščenja za odstranjevanje silicijevega dioksida in vodi do daljše življenjske dobe cevi in ​​strojev.

Koliko vode porabi tovarna polprevodnikov?

Čeprav je poraba vode na čip minimalna, je skupna poraba vode v obratu za proizvodnjo čipov lahko znatna. Tovarna, ki predeluje 40,000 rezin na mesec, bi lahko dnevno porabila okoli 4.8 milijona galon vode.

To je približno enako letni porabi vode v skupnosti s 60,000 ljudmi, kar kaže na visoke zahteve industrije po vodi.